Tese

Caracterização de filmes finos de TiO₂ obtidos por deposição química em fase vapor (2015)

• Authors:
  • Carriel,^Rodrigo^Crociati
  • Pillis, Marina Fuser (Orientador)
• USP affiliated authors: CARRIEL, RODRIGO CROCIATI - IPEN
• Unidades: IPEN
• Subjects: FILMES FINOS; TITÂNIO; CRESCIMENTO DE CRISTAIS; SILÍCIO; REAÇÕES QUÍMICAS; DIFRAÇÃO POR RAIOS X; MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
• Language: Português
• Abstract: Filmes finos de TiO2 foram crescidos sobre silício (100) através do processo de deposição química de organometálicos em fase vapor (MOCVD). Os filmes foram crescidos a 400, 500, 600 e 700ºC em um equipamento horizontal tradicional. Tetraisopropóxido de titânio foi utilizado como fonte tanto de titânio como de oxigênio. Nitrogênio foi utilizado como gás de arraste e como gás de purga. Foram realizadas análises de difração de raios-x para a caracterização da estrutura cristalina. Microscopia eletrônica de varredura com canhão de emissão de campo foi utilizada para a avaliação da morfologia e da espessura dos filmes. Os filmes de TiO2 crescidos a 400 e a 500ºC apresentaram fase anatase. O filme crescido a 600ºC apresentou as fases anatase e rutilo, enquanto que o filme crescido a 700ºC apresentou, além de anatase e rutilo, a fase broquita. Para se avaliar o comportamento eletroquímico dos filmes foi utilizada a técnica de voltametria cíclica. Os testes indicaram um forte caráter capacitivo dos filmes de TiO2. O pico de corrente anódica é diretamente proporcional à raiz quadrada da velocidade de varredura para os filmes crescidos a 500ºC, sugerindo que o mecanismo predominante de transporte de cátions seja por difusão linear. Observou-se que o filme crescido por 60 minutos permitiu maior facilidade de intercalação e desintercalação de íons Na+. Os filmes crescidos nas demais condições não apresentaram pico de corrente anódica, embora o acúmulo de cargas se fizesse presente
• Imprenta:
  • Place of publication: São Paulo
  • Date published: 2015
• Data da defesa: 26.01.2015
Acesso à fonte

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How to cite

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• ABNT

  CARRIEL, ^Rodrigo^Crociati; PILLIS, Marina Fuser. Caracterização de filmes finos de TiO₂ obtidos por deposição química em fase vapor. 2015.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/ >.

• APA

  Carriel, ^R. ^C., & Pillis, M. F. (2015). Caracterização de filmes finos de TiO₂ obtidos por deposição química em fase vapor. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/

• NLM

  Carriel ^R^C, Pillis MF. Caracterização de filmes finos de TiO₂ obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/

• Vancouver

  Carriel ^R^C, Pillis MF. Caracterização de filmes finos de TiO₂ obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/

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