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  • Source: Solid State Electronics. Unidade: EP

    Subjects: TRANSISTORES, ALTA TEMPERATURA

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      SILVA, Vanessa Cristina Pereira da et al. Trade-off analysis between gm/ID and fT of nanosheet NMOS transistors with different metal gate stack at high temperature. Solid State Electronics, v. 191, p. 1-8, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108267. Acesso em: 15 set. 2024.
    • APA

      Silva, V. C. P. da, Martino, J. A., Simoen, E., Veloso, A., & Agopian, P. G. D. (2022). Trade-off analysis between gm/ID and fT of nanosheet NMOS transistors with different metal gate stack at high temperature. Solid State Electronics, 191, 1-8. doi:10.1016/j.sse.2022.108267
    • NLM

      Silva VCP da, Martino JA, Simoen E, Veloso A, Agopian PGD. Trade-off analysis between gm/ID and fT of nanosheet NMOS transistors with different metal gate stack at high temperature [Internet]. Solid State Electronics. 2022 ;191 1-8.[citado 2024 set. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108267
    • Vancouver

      Silva VCP da, Martino JA, Simoen E, Veloso A, Agopian PGD. Trade-off analysis between gm/ID and fT of nanosheet NMOS transistors with different metal gate stack at high temperature [Internet]. Solid State Electronics. 2022 ;191 1-8.[citado 2024 set. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108267
  • Unidade: EP

    Subjects: SEMICONDUTORES, TRANSISTORES, ALTA TEMPERATURA, MICROELETRÔNICA

    Acesso à fonteHow to cite
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    • ABNT

      CAMILLO, Luciano Mendes. Estudo do ponto invariante com a temperatura ("Zero Temperature Coefficient") em transistores SOI MOSFET fabricados com tecnologia ultra-submicrométrica. 2011. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-05042011-155808/. Acesso em: 15 set. 2024.
    • APA

      Camillo, L. M. (2011). Estudo do ponto invariante com a temperatura ("Zero Temperature Coefficient") em transistores SOI MOSFET fabricados com tecnologia ultra-submicrométrica (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-05042011-155808/
    • NLM

      Camillo LM. Estudo do ponto invariante com a temperatura ("Zero Temperature Coefficient") em transistores SOI MOSFET fabricados com tecnologia ultra-submicrométrica [Internet]. 2011 ;[citado 2024 set. 15 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-05042011-155808/
    • Vancouver

      Camillo LM. Estudo do ponto invariante com a temperatura ("Zero Temperature Coefficient") em transistores SOI MOSFET fabricados com tecnologia ultra-submicrométrica [Internet]. 2011 ;[citado 2024 set. 15 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-05042011-155808/
  • Unidade: EP

    Subjects: SEMICONDUTORES, TRANSISTORES, ALTA TEMPERATURA, MICROELETRÔNICA

    How to cite
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    • ABNT

      SANTOS, Carolina Davanzzo Gomes dos. Caracterização elétrica de transistores SOI de porta circundante com estrutura de canal gradual em alta temperatura. 2005. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2005. . Acesso em: 15 set. 2024.
    • APA

      Santos, C. D. G. dos. (2005). Caracterização elétrica de transistores SOI de porta circundante com estrutura de canal gradual em alta temperatura (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Santos CDG dos. Caracterização elétrica de transistores SOI de porta circundante com estrutura de canal gradual em alta temperatura. 2005 ;[citado 2024 set. 15 ]
    • Vancouver

      Santos CDG dos. Caracterização elétrica de transistores SOI de porta circundante com estrutura de canal gradual em alta temperatura. 2005 ;[citado 2024 set. 15 ]

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