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  • Artigo de periodico

    Femtosecond laser-induced damage threshold incubation in SrTiO3 thin films (2025)

    Paula, Kelly Tasso de ; Huaman, Jose Luis Clabel ; Vieira, Eduardo Vinícius Macedo ; Mastelaro, Valmor Roberto ; Vollet Filho, José Dirceu ; Mendonça, Cleber Renato

    Fonte: Applied Surface Science. Unidade: IFSC

    Assuntos: LASER, FILMES FINOS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS, ESPECTROSCOPIA RAMAN

    PrivadoAcesso à fonteDOIComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      PAULA, Kelly Tasso de et al. Femtosecond laser-induced damage threshold incubation in SrTiO3 thin films. Applied Surface Science, v. 680, n. Ja 2025, p. 161340-1-161340-10, 2025Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.161340. Acesso em: 08 out. 2025.

    • APA

      Paula, K. T. de, Huaman, J. L. C., Vieira, E. V. M., Mastelaro, V. R., Vollet Filho, J. D., & Mendonça, C. R. (2025). Femtosecond laser-induced damage threshold incubation in SrTiO3 thin films. Applied Surface Science, 680( Ja 2025), 161340-1-161340-10. doi:10.1016/j.apsusc.2024.161340

    • NLM

      Paula KT de, Huaman JLC, Vieira EVM, Mastelaro VR, Vollet Filho JD, Mendonça CR. Femtosecond laser-induced damage threshold incubation in SrTiO3 thin films [Internet]. Applied Surface Science. 2025 ; 680( Ja 2025): 161340-1-161340-10.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.161340

    • Vancouver

      Paula KT de, Huaman JLC, Vieira EVM, Mastelaro VR, Vollet Filho JD, Mendonça CR. Femtosecond laser-induced damage threshold incubation in SrTiO3 thin films [Internet]. Applied Surface Science. 2025 ; 680( Ja 2025): 161340-1-161340-10.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.161340

  • Artigo de periodico

    Femtosecond laser processing of amorphous silicon films (2024)

    Paula, Kelly Tasso de ; Lin, H. I.; Yang, F.; Vollet Filho, José Dirceu ; Gu, Tian; Hu, Juejun J.; Mendonça, Cleber Renato

    Fonte: Journal of Manufacturing Processes. Unidade: IFSC

    Assuntos: LASER, FILMES FINOS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS

    PrivadoAcesso à fonteDOIComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      PAULA, Kelly Tasso de et al. Femtosecond laser processing of amorphous silicon films. Journal of Manufacturing Processes, v. 128, p. 50-59, 2024Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jmapro.2024.08.029. Acesso em: 08 out. 2025.

    • APA

      Paula, K. T. de, Lin, H. I., Yang, F., Vollet Filho, J. D., Gu, T., Hu, J. J., & Mendonça, C. R. (2024). Femtosecond laser processing of amorphous silicon films. Journal of Manufacturing Processes, 128, 50-59. doi:10.1016/j.jmapro.2024.08.029

    • NLM

      Paula KT de, Lin HI, Yang F, Vollet Filho JD, Gu T, Hu JJ, Mendonça CR. Femtosecond laser processing of amorphous silicon films [Internet]. Journal of Manufacturing Processes. 2024 ; 128 50-59.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jmapro.2024.08.029

    • Vancouver

      Paula KT de, Lin HI, Yang F, Vollet Filho JD, Gu T, Hu JJ, Mendonça CR. Femtosecond laser processing of amorphous silicon films [Internet]. Journal of Manufacturing Processes. 2024 ; 128 50-59.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jmapro.2024.08.029
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