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  • Unidade: IPEN

    Subjects: VAPOR ATMOSFÉRICO, RADAR, SENSORIAMENTO REMOTO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/. Acesso em: 16 ago. 2024.
    • APA

      Torres, A. S. (2008). Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
    • NLM

      Torres AS. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico [Internet]. 2008 ;[citado 2024 ago. 16 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
    • Vancouver

      Torres AS. Desenvolvimento de uma metodologia de calibração independente para um lidar raman na obtencao e estudo de perfis de vapor d'agua atmosferico [Internet]. 2008 ;[citado 2024 ago. 16 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-26082009-135640/
  • Unidade: EP

    Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO

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    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. . Acesso em: 16 ago. 2024.
    • APA

      Torres, A. S. (2002). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
    • NLM

      Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002 ;[citado 2024 ago. 16 ]
    • Vancouver

      Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002 ;[citado 2024 ago. 16 ]

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