Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions (1996)
Ferreira, F. F. 
; Tabacniks, Manfredo ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Faria, I. C.; Gorenstein, A.
Source: Solid State Ionics. Conference titles: International Conference on Solid State Ionics. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
FERREIRA, F. F. et al. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6. Acesso em: 28 nov. 2025. , 1996APA
Ferreira, F. F., Tabacniks, M., Fantini, M. C. de A., Faria, I. C., & Gorenstein, A. (1996). Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/0167-2738(96)00236-6NLM
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini MC de A, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2025 nov. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6Vancouver
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini MC de A, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2025 nov. 28 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6
