Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions (1996)
Ferreira, F. F. 
; Tabacniks, Manfredo ; Fantini, Marcia ; Faria, I. C.; Gorenstein, A.
Fonte: Solid State Ionics. Nome do evento: International Conference on Solid State Ionics. Unidade: IF
Assuntos: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FERREIRA, F. F. et al. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6. Acesso em: 09 out. 2024. , 1996APA
Ferreira, F. F., Tabacniks, M., Fantini, M., Faria, I. C., & Gorenstein, A. (1996). Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/0167-2738(96)00236-6NLM
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini M, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2024 out. 09 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6Vancouver
Ferreira FF, Tabacniks M, Fantini M, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2024 out. 09 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6
