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  • Trabalho de evento-resumo

    Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films (2004)

    Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu

    Fonte: Program. Nome do evento: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP

    Assuntos: MATERIAIS, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X

    Acesso à fonteComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      CRIADO, Denise et al. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 06 nov. 2025.

    • APA

      Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf

    • NLM

      Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2025 nov. 06 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf

    • Vancouver

      Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2025 nov. 06 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf

  • Trabalho de evento-resumo

    Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress (2004)

    Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu

    Fonte: Program. Nome do evento: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP

    Assuntos: MATERIAIS, FILMES FINOS

    Acesso à fonteComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      CRIADO, Denise et al. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 06 nov. 2025.

    • APA

      Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf

    • NLM

      Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2025 nov. 06 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf

    • Vancouver

      Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2025 nov. 06 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
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