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Artigo de periodico
Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films (2018)
Morelhao, Sergio Luiz; Kycia, Stefan; Netzke, Samuel; Fornari, Celso I.; Rappl, Paulo H. O.; Abramof, Eduardo
Fonte: Applied Physics Letters. Unidade: IF
Assuntos: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, SEMICONDUTORES, CRISTALOGRAFIA DE RAIOS X
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ABNT
MORELHAO, Sergio Luiz et al. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. Applied Physics Letters, v. 112, n. 12, p. 101903, 2018Tradução . . Disponível em: https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5020375. Acesso em: 06 nov. 2025.
APA
Morelhao, S. L., Kycia, S., Netzke, S., Fornari, C. I., Rappl, P. H. O., & Abramof, E. (2018). Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films. Applied Physics Letters, 112( 12), 101903. doi:10.1063/1.5020375
NLM
Morelhao SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. Applied Physics Letters. 2018 ; 112( 12): 101903.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5020375
Vancouver
Morelhao SL, Kycia S, Netzke S, Fornari CI, Rappl PHO, Abramof E. Hybrid reflections from multiple x-ray scattering in epitaxial bismuth telluride topological insulator films [Internet]. Applied Physics Letters. 2018 ; 112( 12): 101903.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5020375
Artigo de periodico
Nanostructure of sol-gel films by x-ray specular reflectivity (2002)
Morelhão, Sérgio Luiz; Brito, Giancarlo Esposito de Souza; Abramof, E
Fonte: Applied Physics Letters. Unidade: IF
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
MORELHÃO, Sérgio Luiz e BRITO, Giancarlo Esposito de Souza e ABRAMOF, E. Nanostructure of sol-gel films by x-ray specular reflectivity. Applied Physics Letters, v. 80, n. 3, p. 407-409, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.1436271. Acesso em: 06 nov. 2025.
APA
Morelhão, S. L., Brito, G. E. de S., & Abramof, E. (2002). Nanostructure of sol-gel films by x-ray specular reflectivity. Applied Physics Letters, 80( 3), 407-409. doi:10.1063/1.1436271
NLM
Morelhão SL, Brito GE de S, Abramof E. Nanostructure of sol-gel films by x-ray specular reflectivity [Internet]. Applied Physics Letters. 2002 ; 80( 3): 407-409.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.1436271
Vancouver
Morelhão SL, Brito GE de S, Abramof E. Nanostructure of sol-gel films by x-ray specular reflectivity [Internet]. Applied Physics Letters. 2002 ; 80( 3): 407-409.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.1436271
Artigo de periodico
Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation (1998)
Morelhão, S L; Avanci, L H; Hayashi, M A; Cardoso, L P; Collins, S P
Fonte: Applied Physics Letters. Unidade: IF
Assunto: FÍSICA
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ABNT
MORELHÃO, S L et al. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation. Applied Physics Letters, v. 73, n. 15, p. 2194-2196, 1998Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.122420. Acesso em: 06 nov. 2025.
APA
Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Hayashi, M. A., Cardoso, L. P., & Collins, S. P. (1998). Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation. Applied Physics Letters, 73( 15), 2194-2196. doi:10.1063/1.122420
NLM
Morelhão SL, Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Collins SP. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation [Internet]. Applied Physics Letters. 1998 ; 73( 15): 2194-2196.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.122420
Vancouver
Morelhão SL, Avanci LH, Hayashi MA, Cardoso LP, Collins SP. Observation of coherent hybrid reflection with synchrotron radiation [Internet]. Applied Physics Letters. 1998 ; 73( 15): 2194-2196.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.122420
Artigo de periodico
Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors (1997)
Hayashi, M A; Morelhão, Sérgio Luiz; Avanci, L H; Cardoso, L P; Sasaki, J M; Kretly, L C; Chang, S L
Fonte: Applied Physics Letters. Unidade: IF
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
HAYASHI, M A et al. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors. Applied Physics Letters, v. 71, n. 18, p. 2614-2616. 1997, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.120157. Acesso em: 06 nov. 2025.
APA
Hayashi, M. A., Morelhão, S. L., Avanci, L. H., Cardoso, L. P., Sasaki, J. M., Kretly, L. C., & Chang, S. L. (1997). Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors. Applied Physics Letters, 71( 18), 2614-2616. 1997. doi:10.1063/1.120157
NLM
Hayashi MA, Morelhão SL, Avanci LH, Cardoso LP, Sasaki JM, Kretly LC, Chang SL. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 71( 18): 2614-2616. 1997.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.120157
Vancouver
Hayashi MA, Morelhão SL, Avanci LH, Cardoso LP, Sasaki JM, Kretly LC, Chang SL. Sensitivity Bragg surface diffraction to analyze ion-implanted semiconductors [Internet]. Applied Physics Letters. 1997 ; 71( 18): 2614-2616. 1997.[citado 2025 nov. 06 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.120157

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