Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBRAVIC. Unidade: IFQSC
Assunto: FÍSICA
ABNT
NOTARI, A. C. et al. Análise in situ de semicondutores III-V durante o crescimento a partir de epitaxia por feixe molecular (MBE). 1990, Anais.. São Paulo: , Universidade de São Paulo, 1990. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/5f726345-cac2-4498-abba-57dc78699a06/PROD001536_2292920.pdf. Acesso em: 23 nov. 2025.APA
Notari, A. C., Siu Li, M., Basmaji, P., & Minondo, M. (1990). Análise in situ de semicondutores III-V durante o crescimento a partir de epitaxia por feixe molecular (MBE). In Anais. São Paulo: , Universidade de São Paulo. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/5f726345-cac2-4498-abba-57dc78699a06/PROD001536_2292920.pdfNLM
Notari AC, Siu Li M, Basmaji P, Minondo M. Análise in situ de semicondutores III-V durante o crescimento a partir de epitaxia por feixe molecular (MBE) [Internet]. Anais. 1990 ;[citado 2025 nov. 23 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/5f726345-cac2-4498-abba-57dc78699a06/PROD001536_2292920.pdfVancouver
Notari AC, Siu Li M, Basmaji P, Minondo M. Análise in situ de semicondutores III-V durante o crescimento a partir de epitaxia por feixe molecular (MBE) [Internet]. Anais. 1990 ;[citado 2025 nov. 23 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/5f726345-cac2-4498-abba-57dc78699a06/PROD001536_2292920.pdf
