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  • Relatorio tecnico

    Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2003)

    Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues

    Unidade: EP

    Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO

    How to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral e MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 03 out. 2024. , 2003

    • APA

      Torres, A. S., & Mansano, R. D. (2003). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). São Paulo: EPUSP.

    • NLM

      Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 out. 03 ]

    • Vancouver

      Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 out. 03 ]

  • Dissertação (Mestrado)

    Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2002)

    Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues (Orientador)

    Unidade: EP

    Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      TORRES, Ani Sobral. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2002. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2002. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php. Acesso em: 03 out. 2024.

    • APA

      Torres, A. S. (2002). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php

    • NLM

      Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 out. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php

    • Vancouver

      Torres AS. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasma de alta densidade acoplado indutivamente (ICP-CVD) [Internet]. 2002 ;[citado 2024 out. 03 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102024-111629/pt-br.php
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