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Artigo de periodico
A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications (2022)
Borges, M. H. R.; Nagay, B. E.; Costa, R. C.; Sacramento, C. M.; Ruiz, K. G.; Landers, R.; Van den Beucken, J. J. J. P.; Fortulan, Carlos Alberto ; Rangel, Elidiane Cipriano ; Cruz, N. C. da; Barão, V. A. R.
Source: Materials Today Chemistry. Unidade: EESC
Subjects: TITÂNIO, CORROSÃO, IMPLANTES DENTÁRIOS, TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES, ENGENHARIA MECÂNICA
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ABNT
BORGES, M. H. R. et al. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications. Materials Today Chemistry, v. 26, p. 1-18, 2022Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095. Acesso em: 05 out. 2024.
APA
Borges, M. H. R., Nagay, B. E., Costa, R. C., Sacramento, C. M., Ruiz, K. G., Landers, R., et al. (2022). A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications. Materials Today Chemistry, 26, 1-18. doi:10.1016/j.mtchem.2022.101095
NLM
Borges MHR, Nagay BE, Costa RC, Sacramento CM, Ruiz KG, Landers R, Van den Beucken JJJP, Fortulan CA, Rangel EC, Cruz NC da, Barão VAR. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications [Internet]. Materials Today Chemistry. 2022 ; 26 1-18.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095
Vancouver
Borges MHR, Nagay BE, Costa RC, Sacramento CM, Ruiz KG, Landers R, Van den Beucken JJJP, Fortulan CA, Rangel EC, Cruz NC da, Barão VAR. A tattoo-inspired electrosynthesized polypyrrole film: crossing the line toward a highly adherent film for biomedical implant applications [Internet]. Materials Today Chemistry. 2022 ; 26 1-18.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mtchem.2022.101095
Artigo de periodico
Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo ; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ELETRODO, LÍTIO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, v. 162, n. 1, p. 679-684, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011. Acesso em: 05 out. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, 162( 1), 679-684. doi:10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Artigo de periodico
Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films (2006)
Souza, E. A.; Landers, R.; Tabacniks, Manfredo ; Cardoso, L. P.; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ÍONS, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024. Acesso em: 05 out. 2024.
APA
Souza, E. A., Landers, R., Tabacniks, M., Cardoso, L. P., & Gorenstein, A. (2006). Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, 51( 26), 5885-5891. doi:10.1016/j.electacta.2006.03.024
NLM
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Vancouver
Souza EA, Landers R, Tabacniks M, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024
Artigo de periodico
Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, ÍONS, LÍTIO, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, v. 155, n. 2, p. 358-36321 de abril de 2006, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014. Acesso em: 05 out. 2024.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, 155( 2), 358-36321 de abril de 2006. doi:10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks M, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Trabalho de evento-resumo periodico
Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering (2001)
Urbano, Alexandre ; Ferreira, F. F. ; Castro, S. C. de; Landers, R.; Fantini, Marcia ; Gorenstein, A.
Source: Electrochimica Acta. Conference titles: International Meeting on Electrochromism (IME-4). Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, LÍTIO, NÍQUEL, ELETROQUÍMICA, ELETRÓLITOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
URBANO, Alexandre et al. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4. Acesso em: 05 out. 2024. , 2001
APA
Urbano, A., Ferreira, F. F., Castro, S. C. de, Landers, R., Fantini, M., & Gorenstein, A. (2001). Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta. Amsterdam: Elsevier. doi:10.1016/S0013-4686(01)00395-4
NLM
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Vancouver
Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini M, Gorenstein A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering [Internet]. Electrochimica Acta. 2001 ; 46( 13-14): 2269-2273.[citado 2024 out. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0013-4686(01)00395-4
Trabalho de evento-resumo
Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h (1992)
Velasquez, E L Z; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés ; Takahashi, H.; Landers, R.
Source: Programa e Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada. Unidades: IF, EP
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VELASQUEZ, E L Z et al. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. 1992, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1992. . Acesso em: 05 out. 2024.
APA
Velasquez, E. L. Z., Fantini, M. C. de A., Páez Carreño, M. N., Pereyra, I., Takahashi, H., & Landers, R. (1992). Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. In Programa e Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica.
NLM
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. Programa e Resumos. 1992 ;[citado 2024 out. 05 ]
Vancouver
Velasquez ELZ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Takahashi H, Landers R. Efeitos dos parametros de deposicao sobre a qualidade de multicamadas de a-'SI': h / a- 'SI ANTPOT.1-X' 'C ANTPOT.X' : h. Programa e Resumos. 1992 ;[citado 2024 out. 05 ]

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