Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films (2006)
- Authors:
- Autor USP: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/j.electacta.2006.03.024
- Subjects: FÍSICA NUCLEAR; FILMES FINOS; COBRE; VANÁDIO; ÍONS; ELETRODO
- Keywords: Copper–vanadium oxide; Microbattery; Thin film electrode; Sputtering; Intercalation
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Electrochimica Acta
- ISSN: 0013-4686
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 15 de agosto de 2006
- Status:
- Nenhuma versão em acesso aberto identificada
-
ABNT
SOUZA, E. A. et al. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, v. 51, n. 26, p. 5885-5891, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024. Acesso em: 31 mar. 2026. -
APA
Souza, E. A., Landers, R., Tabacniks, M. H., Cardoso, L. P., & Gorenstein, A. (2006). Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films. Electrochimica Acta, 51( 26), 5885-5891. doi:10.1016/j.electacta.2006.03.024 -
NLM
Souza EA, Landers R, Tabacniks MH, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2026 mar. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024 -
Vancouver
Souza EA, Landers R, Tabacniks MH, Cardoso LP, Gorenstein A. Cathodic behavior of co-sputtered Cu/V oxides thin films [Internet]. Electrochimica Acta. 2006 ; 51( 26): 5885-5891.[citado 2026 mar. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.electacta.2006.03.024 - Modernização de experiências didáticas de Física Básica
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