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  • Artigo de periodico

    Sterilization by oxygen plasma (2004)

    Moreira, Adir José; Mansano, Ronaldo Domingues ; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Ruas, Ronaldo; Zambon, Luís da Silva ; Silva, Mônica Valero da; Verdonck, Patrick Bernard

    Source: Applied Surface Science. Unidades: FCF, EP

    Subjects: PLASMA, OXIGÊNIO, MICROBIOLOGIA

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      MOREIRA, Adir José et al. Sterilization by oxygen plasma. Applied Surface Science, v. 235, n. 1-2, p. 151-155, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128. Acesso em: 07 nov. 2024.

    • APA

      Moreira, A. J., Mansano, R. D., Pinto, T. de J. A., Ruas, R., Zambon, L. da S., Silva, M. V. da, & Verdonck, P. B. (2004). Sterilization by oxygen plasma. Applied Surface Science, 235( 1-2), 151-155. doi:10.1016/j.apsusc.2004.05.128

    • NLM

      Moreira AJ, Mansano RD, Pinto T de JA, Ruas R, Zambon L da S, Silva MV da, Verdonck PB. Sterilization by oxygen plasma [Internet]. Applied Surface Science. 2004 ; 235( 1-2): 151-155.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128

    • Vancouver

      Moreira AJ, Mansano RD, Pinto T de JA, Ruas R, Zambon L da S, Silva MV da, Verdonck PB. Sterilization by oxygen plasma [Internet]. Applied Surface Science. 2004 ; 235( 1-2): 151-155.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.05.128

  • Artigo de periodico

    LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas (1999)

    Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Furlan, Rogério ; Verdonck, Patrick Bernard

    Source: Thin Solid Films. Unidade: EP

    Assunto: FILMES FINOS

    Acesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      ZAMBOM, Luís da Silva et al. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, v. 343-344, p. 299-301, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9. Acesso em: 07 nov. 2024.

    • APA

      Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1999). LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, 343-344, 299-301. doi:10.1016/s0040-6090(98)01587-9

    • NLM

      Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9

    • Vancouver

      Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9
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