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  • Source: Thin Solid Films. Unidade: EP

    Assunto: FILMES FINOS

    Acesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      ZAMBOM, Luís da Silva et al. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, v. 343-344, p. 299-301, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9. Acesso em: 07 nov. 2024.
    • APA

      Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1999). LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, 343-344, 299-301. doi:10.1016/s0040-6090(98)01587-9
    • NLM

      Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9
    • Vancouver

      Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2024 nov. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9

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