ReP USP - Resultado da busca

Tese (Doutorado)
Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma (1999)
Massi, Marcos; Maciel, Homero Santiago (Orientador); Verdonck, Patrick Bernard (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MASSI, Marcos. Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma. 1999. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1999. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-28112024-101347/pt-br.php. Acesso em: 15 fev. 2026.
APA
Massi, M. (1999). Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-28112024-101347/pt-br.php
NLM
Massi M. Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma [Internet]. 1999 ;[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-28112024-101347/pt-br.php
Vancouver
Massi M. Deposição e corrosão de filmes de carbono tipo diamante através de técnicas assistidas por plasma [Internet]. 1999 ;[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-28112024-101347/pt-br.php
Trabalho de evento
The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching (1999)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Nogueira, Paula Maria; Zambom, Luís da Silva ; Verdonck, Patrick Bernard; Massi, Marcos ; Maciel, Homero Santiago
Source: ICMP 99: technical digest. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: FILMES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. 1999, Anais.. São Paulo: SBMicro/IMAPS, 1999. . Acesso em: 15 fev. 2026.
APA
Mansano, R. D., Nogueira, P. M., Zambom, L. da S., Verdonck, P. B., Massi, M., & Maciel, H. S. (1999). The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. In ICMP 99: technical digest. São Paulo: SBMicro/IMAPS.
NLM
Mansano RD, Nogueira PM, Zambom L da S, Verdonck PB, Massi M, Maciel HS. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. ICMP 99: technical digest. 1999 ;[citado 2026 fev. 15 ]
Vancouver
Mansano RD, Nogueira PM, Zambom L da S, Verdonck PB, Massi M, Maciel HS. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. ICMP 99: technical digest. 1999 ;[citado 2026 fev. 15 ]
Artigo de periodico
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering (1999)
Massi, Marcos; Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, Homero Santiago; Otani, C.; Verdonck, Patrick Bernard; Nishioka, L. N. B. M.
Source: Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica. Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MASSI, Marcos et al. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica, n. 41, 1999Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/fa947f7e-177c-4df9-8496-d89415d67262/BT-PEE-99_41_250911_082721.pdf. Acesso em: 15 fev. 2026.
APA
Massi, M., Mansano, R. D., Maciel, H. S., Otani, C., Verdonck, P. B., & Nishioka, L. N. B. M. (1999). Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica, (41). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/fa947f7e-177c-4df9-8496-d89415d67262/BT-PEE-99_41_250911_082721.pdf
NLM
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica. 1999 ;(41):[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/fa947f7e-177c-4df9-8496-d89415d67262/BT-PEE-99_41_250911_082721.pdf
Vancouver
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica. 1999 ;(41):[citado 2026 fev. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/fa947f7e-177c-4df9-8496-d89415d67262/BT-PEE-99_41_250911_082721.pdf

USP Schools

ReP

Filtros

Authors