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  • Artigo de periodico

    Study of TiOxNy MOS capacitors (2010)

    Albertin, Katia Franklin ; Souza, Denise Criado Pereira de ; Zuñiga Paez, Alejandro A.; Pereyra, Inés

    Source: Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. Unidade: EP

    Subjects: CAPACITORES, MICROSCOPIA ELETRÔNICA

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      ALBERTIN, Katia Franklin et al. Study of TiOxNy MOS capacitors. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, v. 31, n. 1, p. 349-358, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.3183707. Acesso em: 21 out. 2024.

    • APA

      Albertin, K. F., Souza, D. C. P. de, Zuñiga Paez, A. A., & Pereyra, I. (2010). Study of TiOxNy MOS capacitors. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, 31( 1), 349-358. doi:10.1149/1.3183707

    • NLM

      Albertin KF, Souza DCP de, Zuñiga Paez AA, Pereyra I. Study of TiOxNy MOS capacitors [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ; 31( 1): 349-358.[citado 2024 out. 21 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3183707

    • Vancouver

      Albertin KF, Souza DCP de, Zuñiga Paez AA, Pereyra I. Study of TiOxNy MOS capacitors [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ; 31( 1): 349-358.[citado 2024 out. 21 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3183707

  • Tese (Doutorado)

    Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD (2007)

    Souza, Denise Criado Pereira de ; Pereyra, Inés (Orientador)

    Unidade: EP

    Subjects: ESTRUTURA DOS MATERIAIS, DIELÉTRICOS (PROPRIEDADES), ÓPTICA ELETRÔNICA, DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS, SEMICONDUTORES, SILÍCIO

    Acesso à fonteHow to cite
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    • ABNT

      SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD. 2007. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2007. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/. Acesso em: 21 out. 2024.

    • APA

      Souza, D. C. P. de. (2007). Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/

    • NLM

      Souza DCP de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD [Internet]. 2007 ;[citado 2024 out. 21 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/

    • Vancouver

      Souza DCP de. Estudo da morfologia e estrutura de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) obtidos pela técnica de PECVD [Internet]. 2007 ;[citado 2024 out. 21 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09012008-145807/

  • Dissertação (Mestrado)

    Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (2003)

    Souza, Denise Criado Pereira de ; Pereyra, Inés (Orientador)

    Unidade: EP

    Subjects: FILMES FINOS, SILÍCIO

    Acesso à fonteHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/. Acesso em: 21 out. 2024.

    • APA

      Souza, D. C. P. de. (2003). Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/

    • NLM

      Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 out. 21 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/

    • Vancouver

      Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 out. 21 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
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