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Trabalho de evento-anais periodico
Micromechanical structures development for chemical analysis: study of the porous silicon as adsorbent (1999)
Souza, Silvana Gasparotto de; Galeazzo, Elisabete ; Silva, Maria Lucia Pereira da; Furlan, Rogério ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Source: Proceedings of SPIE. Conference titles: Electronics and Structures for MENS. Unidade: EP
Assunto: SENSORES ELETROMECÂNICOS
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ABNT
SOUZA, Silvana Gasparotto de et al. Micromechanical structures development for chemical analysis: study of the porous silicon as adsorbent. Proceedings of SPIE. Bellingham: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 18 nov. 2024. , 1999
APA
Souza, S. G. de, Galeazzo, E., Silva, M. L. P. da, Furlan, R., & Ramírez Fernandez, F. J. (1999). Micromechanical structures development for chemical analysis: study of the porous silicon as adsorbent. Proceedings of SPIE. Bellingham: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Souza SG de, Galeazzo E, Silva MLP da, Furlan R, Ramírez Fernandez FJ. Micromechanical structures development for chemical analysis: study of the porous silicon as adsorbent. Proceedings of SPIE. 1999 ; 3891 376-394.[citado 2024 nov. 18 ]
Vancouver
Souza SG de, Galeazzo E, Silva MLP da, Furlan R, Ramírez Fernandez FJ. Micromechanical structures development for chemical analysis: study of the porous silicon as adsorbent. Proceedings of SPIE. 1999 ; 3891 376-394.[citado 2024 nov. 18 ]
Trabalho de evento
PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom) (1997)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 18 nov. 2024.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., Morimoto, N. I., Bonnaud, O., Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (1997). PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 nov. 18 ]

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