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Trabalho de evento-resumo
Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicio (1995)
Araes, L G; Hasenack, Claus Martin
Source: Resumos. Conference titles: Simposio de Iniciacao Cientifica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
ARAES, L G e HASENACK, Claus Martin. Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicio. 1995, Anais.. Sao Paulo: Usp, 1995. . Acesso em: 22 jun. 2024.
APA
Araes, L. G., & Hasenack, C. M. (1995). Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicio. In Resumos. Sao Paulo: Usp.
NLM
Araes LG, Hasenack CM. Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicio. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]
Vancouver
Araes LG, Hasenack CM. Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicio. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]
Trabalho de evento-resumo
Estudo do processo de calibracao de temperatura de um forno de processamento termico rapido (1995)
Pires, M O C; Hasenack, Claus Martin
Source: Resumos. Conference titles: Simposio de Iniciacao Cientifica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
PIRES, M O C e HASENACK, Claus Martin. Estudo do processo de calibracao de temperatura de um forno de processamento termico rapido. 1995, Anais.. São Paulo: Usp, 1995. . Acesso em: 22 jun. 2024.
APA
Pires, M. O. C., & Hasenack, C. M. (1995). Estudo do processo de calibracao de temperatura de um forno de processamento termico rapido. In Resumos. São Paulo: Usp.
NLM
Pires MOC, Hasenack CM. Estudo do processo de calibracao de temperatura de um forno de processamento termico rapido. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]
Vancouver
Pires MOC, Hasenack CM. Estudo do processo de calibracao de temperatura de um forno de processamento termico rapido. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]
Trabalho de evento-resumo
Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica (1995)
Souza Filho, J C; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Hasenack, Claus Martin
Source: Resumos. Conference titles: Simposio de Iniciacao Cientifica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SOUZA FILHO, J C e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. 1995, Anais.. São Paulo: Usp, 1995. . Acesso em: 22 jun. 2024.
APA
Souza Filho, J. C., Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1995). Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. In Resumos. São Paulo: Usp.
NLM
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]
Vancouver
Souza Filho JC, Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Medida da rugosidade superficial por espalhamento de luz de laminas de silicio apos diferentes processos de oxidacao termica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 jun. 22 ]

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