Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido (1987)
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, TRATAMENTO TÉRMICO
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ABNT
SOUZA, J. P. e HASEMACK, Claus Martin e SWART, Jacobus Willibrordus. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 01 maio 2026.APA
Souza, J. P., Hasemack, C. M., & Swart, J. W. (1987). Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.NLM
Souza JP, Hasemack CM, Swart JW. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2026 maio 01 ]Vancouver
Souza JP, Hasemack CM, Swart JW. Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2026 maio 01 ]
