ReP USP - Resultado da busca

Filtros : "Fontes, M B A" Removido: "EP-PMT" Limpar

Filtros

Artigo de periodico
Flow-injection analysis technique used to electrochemically measure nitrite through a gold working electrode modified with 1-2 diaminobenzene (DAB) (2010)
Almeida, F L; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Fontes, M B A
Source: Journal of Integrated Circuits and Systems. Unidade: EP
Subjects: ELETROQUÍMICA, ELETRODO, NITRATOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ALMEIDA, F L e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e FONTES, M B A. Flow-injection analysis technique used to electrochemically measure nitrite through a gold working electrode modified with 1-2 diaminobenzene (DAB). Journal of Integrated Circuits and Systems, v. 5, n. 2, p. 134-139, 2010Tradução . . Acesso em: 09 nov. 2024.
APA
Almeida, F. L., Santos Filho, S. G. dos, & Fontes, M. B. A. (2010). Flow-injection analysis technique used to electrochemically measure nitrite through a gold working electrode modified with 1-2 diaminobenzene (DAB). Journal of Integrated Circuits and Systems, 5( 2), 134-139.
NLM
Almeida FL, Santos Filho SG dos, Fontes MBA. Flow-injection analysis technique used to electrochemically measure nitrite through a gold working electrode modified with 1-2 diaminobenzene (DAB). Journal of Integrated Circuits and Systems. 2010 ;5( 2): 134-139.[citado 2024 nov. 09 ]
Vancouver
Almeida FL, Santos Filho SG dos, Fontes MBA. Flow-injection analysis technique used to electrochemically measure nitrite through a gold working electrode modified with 1-2 diaminobenzene (DAB). Journal of Integrated Circuits and Systems. 2010 ;5( 2): 134-139.[citado 2024 nov. 09 ]
Trabalho de evento
Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma (1993)
Fontes, M B A; Yamamoto, R K; Maciel, H. S.; Acquadro Quacchia, Juan Carlos
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidades: IF, EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FONTES, M B A et al. Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 09 nov. 2024.
APA
Fontes, M. B. A., Yamamoto, R. K., Maciel, H. S., & Acquadro Quacchia, J. C. (1993). Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. In Anais. Campinas: Sbmicro.
NLM
Fontes MBA, Yamamoto RK, Maciel HS, Acquadro Quacchia JC. Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. Anais. 1993 ;[citado 2024 nov. 09 ]
Vancouver
Fontes MBA, Yamamoto RK, Maciel HS, Acquadro Quacchia JC. Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. Anais. 1993 ;[citado 2024 nov. 09 ]

Digital Library of Intellectual Production of Universidade de São Paulo 2012 - 2024