Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma (1993)
- Authors:
- USP affiliated authors: QUACCHIA, JUAN CARLOS ACQUADRO - IF ; MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP
- Unidades: IF; EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
FONTES, M B A et al. Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 17 nov. 2025. -
APA
Fontes, M. B. A., Yamamoto, R. K., Maciel, H. S., & Acquadro Quacchia, J. C. (1993). Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. In Anais. Campinas: Sbmicro. -
NLM
Fontes MBA, Yamamoto RK, Maciel HS, Acquadro Quacchia JC. Determinacao da taxa de deposicao com magnetrons sputtering atraves de parametros do plasma. Anais. 1993 ;[citado 2025 nov. 17 ] -
Vancouver
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