Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS (2004)
Source: Resumo. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBRAVIC. Unidade: IQSC
Assunto: QUÍMICA
ABNT
SOUZA, Adriano Lopes de et al. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. 2004, Anais.. Rio de Janeiro: PUC Rio, 2004. . Acesso em: 20 ago. 2024.APA
Souza, A. L. de, Rodrigues Filho, U. P., Nascente, P. A. de P., Eberlin, M. N., & Santos, L. S. (2004). Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. In Resumo. Rio de Janeiro: PUC Rio.NLM
Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2024 ago. 20 ]Vancouver
Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2024 ago. 20 ]