Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS

Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS (2004)

Authors:
Autor USP: RODRIGUES FILHO, UBIRAJARA PEREIRA - IQSC
Unidade: IQSC
Assunto: QUÍMICA
Language: Português
Imprenta:
- Publisher: PUC Rio
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 2004
Source:
- Título: Resumo
Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBRAVIC

A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

ABNT

SOUZA, Adriano Lopes de et al. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. 2004, Anais.. Rio de Janeiro: PUC Rio, 2004. . Acesso em: 28 dez. 2025.
APA

Souza, A. L. de, Rodrigues Filho, U. P., Nascente, P. A. de P., Eberlin, M. N., & Santos, L. S. (2004). Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. In Resumo. Rio de Janeiro: PUC Rio.
NLM

Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2025 dez. 28 ]
Vancouver

Souza AL de, Rodrigues Filho UP, Nascente PA de P, Eberlin MN, Santos LS. Caracterização de filme fino de aminossilano por MALDI-TOF e XPS. Resumo. 2004 ;[citado 2025 dez. 28 ]