Iñiguez, A. C.; Campomanes, R. R.; Tabacniks, Manfredo 
; Comedi, D.
Source: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, TITÂNIO, ESPALHAMENTO, ÍONS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
IÑIGUEZ, A. C. et al. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 22, n. 1, p. 22-24, 2003Tradução . . Disponível em: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174. Acesso em: 26 ago. 2024.APA
Iñiguez, A. C., Campomanes, R. R., Tabacniks, M., & Comedi, D. (2003). Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 22( 1), 22-24. Recuperado de http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174NLM
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks M, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174Vancouver
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks M, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174
