Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films (2003)
- Authors:
- Autor USP: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF
- Unidade: IF
- Subjects: FÍSICA NUCLEAR; FILMES FINOS; TITÂNIO; ESPALHAMENTO; ÍONS; DIFRAÇÃO POR RAIOS X
- Keywords: Titanium oxide; sputtering; thin films
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo
- ISSN: 0101-7659
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 22, n. 1, p. 22-24
-
ABNT
IÑIGUEZ, A. C. et al. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 22, n. 1, p. 22-24, 2003Tradução . . Disponível em: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174. Acesso em: 27 jan. 2026. -
APA
Iñiguez, A. C., Campomanes, R. R., Tabacniks, M. H., & Comedi, D. (2003). Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 22( 1), 22-24. Recuperado de http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174 -
NLM
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks MH, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2026 jan. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174 -
Vancouver
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks MH, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2026 jan. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174 - The laboratory for material analysis with ion beams LAMFI-USP
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