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Tese (Doutorado)
Estudos em escala atômica sobre as propriedades físico-químicas da passivação de cátions metálicos e orgânicos em filmes finos de perovskita bidimensionais (2025)
Ribeiro, Israel Cristian da Cunha; Silva, Juarez Lopes Ferreira da (Orientador)
Unidade: IQSC
Subjects: QUÍMICA, ENERGIA SOLAR
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ABNT
RIBEIRO, Israel Cristian da Cunha. Estudos em escala atômica sobre as propriedades físico-químicas da passivação de cátions metálicos e orgânicos em filmes finos de perovskita bidimensionais. 2025. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Carlos, 2025. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75134/tde-24112025-180422/. Acesso em: 27 jan. 2026.
APA
Ribeiro, I. C. da C. (2025). Estudos em escala atômica sobre as propriedades físico-químicas da passivação de cátions metálicos e orgânicos em filmes finos de perovskita bidimensionais (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Carlos. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75134/tde-24112025-180422/
NLM
Ribeiro IC da C. Estudos em escala atômica sobre as propriedades físico-químicas da passivação de cátions metálicos e orgânicos em filmes finos de perovskita bidimensionais [Internet]. 2025 ;[citado 2026 jan. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75134/tde-24112025-180422/
Vancouver
Ribeiro IC da C. Estudos em escala atômica sobre as propriedades físico-químicas da passivação de cátions metálicos e orgânicos em filmes finos de perovskita bidimensionais [Internet]. 2025 ;[citado 2026 jan. 27 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/75/75134/tde-24112025-180422/
Artigo de periodico
Determination of the composition and thickness of chromel and alumel thin films on different substrates by quantitative energy dispersive spectroscopy analysis (2021)
Oblitas, Raissa Lima de ; Teixeira, Fernanda S. ; Salvadori, Maria Cecília Barbosa da Silveira
Source: Microscopy Research and Technique. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, CROMO, ALUMÍNIO, NÍQUEL, SILÍCIO, MICROANÁLISE
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ABNT
OBLITAS, Raissa Lima de e TEIXEIRA, Fernanda S. e SALVADORI, Maria Cecília Barbosa da Silveira. Determination of the composition and thickness of chromel and alumel thin films on different substrates by quantitative energy dispersive spectroscopy analysis. Microscopy Research and Technique, p. 10 , 2021Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/jemt.23917. Acesso em: 27 jan. 2026.
APA
Oblitas, R. L. de, Teixeira, F. S., & Salvadori, M. C. B. da S. (2021). Determination of the composition and thickness of chromel and alumel thin films on different substrates by quantitative energy dispersive spectroscopy analysis. Microscopy Research and Technique, 10 . doi:10.1002/jemt.23917
NLM
Oblitas RL de, Teixeira FS, Salvadori MCB da S. Determination of the composition and thickness of chromel and alumel thin films on different substrates by quantitative energy dispersive spectroscopy analysis [Internet]. Microscopy Research and Technique. 2021 ;10 .[citado 2026 jan. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1002/jemt.23917
Vancouver
Oblitas RL de, Teixeira FS, Salvadori MCB da S. Determination of the composition and thickness of chromel and alumel thin films on different substrates by quantitative energy dispersive spectroscopy analysis [Internet]. Microscopy Research and Technique. 2021 ;10 .[citado 2026 jan. 27 ] Available from: https://doi.org/10.1002/jemt.23917
Artigo de periodico
Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films (2003)
Iñiguez, A. C.; Campomanes, R. R.; Tabacniks, Manfredo Harri ; Comedi, D.
Source: Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, TITÂNIO, ESPALHAMENTO, ÍONS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
IÑIGUEZ, A. C. et al. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, v. 22, n. 1, p. 22-24, 2003Tradução . . Disponível em: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174. Acesso em: 27 jan. 2026.
APA
Iñiguez, A. C., Campomanes, R. R., Tabacniks, M. H., & Comedi, D. (2003). Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, 22( 1), 22-24. Recuperado de http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174
NLM
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks MH, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2026 jan. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174
Vancouver
Iñiguez AC, Campomanes RR, Tabacniks MH, Comedi D. Influence of O2 flow rate on growth rate, composition and structure of RF-sputtered TiOx films [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo. 2003 ; 22( 1): 22-24.[citado 2026 jan. 27 ] Available from: http://www.sbvacuo.org.br/rbav/index.php/rbav/article/view/174

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