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  • Trabalho de evento-anais periodico

    Sub-bandgap femtosecond laser processing of chalcogenide thin films: incubation and damage thresholds (2026)

    Ospina, Orlando David Marbello ; Misoguti, Lino ; Dutta, Nikita S. ; Arnold, Craig B. ; Mendonça, Cleber Renato

    Source: Proceedings of SPIE. Conference titles: OPTO. Unidade: IFSC

    Subjects: INFRAVERMELHO, FILMES FINOS, FOTÔNICA

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      OSPINA, Orlando David Marbello et al. Sub-bandgap femtosecond laser processing of chalcogenide thin films: incubation and damage thresholds. Proceedings of SPIE. Bellingham: Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1117/12.3077379. Acesso em: 19 abr. 2026. , 2026

    • APA

      Ospina, O. D. M., Misoguti, L., Dutta, N. S., Arnold, C. B., & Mendonça, C. R. (2026). Sub-bandgap femtosecond laser processing of chalcogenide thin films: incubation and damage thresholds. Proceedings of SPIE. Bellingham: Instituto de Física de São Carlos, Universidade de São Paulo. doi:10.1117/12.3077379

    • NLM

      Ospina ODM, Misoguti L, Dutta NS, Arnold CB, Mendonça CR. Sub-bandgap femtosecond laser processing of chalcogenide thin films: incubation and damage thresholds [Internet]. Proceedings of SPIE. 2026 ; 13900 1390014-1-1390014-6.[citado 2026 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1117/12.3077379

    • Vancouver

      Ospina ODM, Misoguti L, Dutta NS, Arnold CB, Mendonça CR. Sub-bandgap femtosecond laser processing of chalcogenide thin films: incubation and damage thresholds [Internet]. Proceedings of SPIE. 2026 ; 13900 1390014-1-1390014-6.[citado 2026 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1117/12.3077379

  • Artigo de periodico

    Two-photon lithography for integrated photonic packaging (2023)

    Yu, Shaoliang ; Du, Qingyang; Mendonça, Cleber Renato ; Ranno, Luigi ; Gu, Tian; Hu, Juejun

    Source: Light: Advanced Manufacturing. Unidade: IFSC

    Subjects: FOTÔNICA, ÓPTICA NÃO LINEAR, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS

    Versão PublicadaAcesso à fonteDOIHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      YU, Shaoliang et al. Two-photon lithography for integrated photonic packaging. Light: Advanced Manufacturing, v. No 2023, n. 32, p. 32-1-32-17, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.37188/lam.2023.032. Acesso em: 19 abr. 2026.

    • APA

      Yu, S., Du, Q., Mendonça, C. R., Ranno, L., Gu, T., & Hu, J. (2023). Two-photon lithography for integrated photonic packaging. Light: Advanced Manufacturing, No 2023( 32), 32-1-32-17. doi:10.37188/lam.2023.032

    • NLM

      Yu S, Du Q, Mendonça CR, Ranno L, Gu T, Hu J. Two-photon lithography for integrated photonic packaging [Internet]. Light: Advanced Manufacturing. 2023 ; No 2023( 32): 32-1-32-17.[citado 2026 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.37188/lam.2023.032

    • Vancouver

      Yu S, Du Q, Mendonça CR, Ranno L, Gu T, Hu J. Two-photon lithography for integrated photonic packaging [Internet]. Light: Advanced Manufacturing. 2023 ; No 2023( 32): 32-1-32-17.[citado 2026 abr. 19 ] Available from: https://doi.org/10.37188/lam.2023.032
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