Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor (2015)
Unidade: IPENSubjects: FILMES FINOS, TITÂNIO, CRESCIMENTO DE CRISTAIS, SILÍCIO, REAÇÕES QUÍMICAS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
ABNT
CARRIEL, Rodrigo Crociati. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor. 2015. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/. Acesso em: 20 ago. 2024.APA
Carriel, R. C. (2015). Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/NLM
Carriel RC. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;[citado 2024 ago. 20 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/Vancouver
Carriel RC. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;[citado 2024 ago. 20 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/