Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX (2001)
Source: Resumos. Conference titles: Simpósio Mineiro de Ciência dos Materiais. Unidade: IQSC
Assunto: ELETROQUÍMICA
ABNT
BENTO, Carlos Alberto da Silva et al. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. 2001, Anais.. Ouro Preto: UFOP/UFMG, 2001. . Acesso em: 06 ago. 2024.APA
Bento, C. A. da S., Tremiliosi Filho, G., Alencar, A. C., & Guastaldi, A. C. (2001). Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. In Resumos. Ouro Preto: UFOP/UFMG.NLM
Bento CA da S, Tremiliosi Filho G, Alencar AC, Guastaldi AC. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. Resumos. 2001 ;[citado 2024 ago. 06 ]Vancouver
Bento CA da S, Tremiliosi Filho G, Alencar AC, Guastaldi AC. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. Resumos. 2001 ;[citado 2024 ago. 06 ]