Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX

Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX (2001)

Authors:
USP affiliated authors: TREMILIOSI FILHO, GERMANO - IQSC
Unidades: IQSC
Subjects: ELETROQUÍMICA
Language: Inglês
Imprenta:
- Publisher: UFOP/UFMG
- Place of publication: Ouro Preto
- Date published: 2001
Source:
- Título do periódico: Resumos
Conference title: Simpósio Mineiro de Ciência dos Materiais

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ABNT

BENTO, Carlos Alberto da Silva; TREMILIOSI FILHO, Germano; ALENCAR, A. C.; GUASTALDI, Antonio Carlos. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. Anais.. Ouro Preto: UFOP/UFMG, 2001.
APA

Bento, C. A. da S., Tremiliosi Filho, G., Alencar, A. C., & Guastaldi, A. C. (2001). Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. In Resumos. Ouro Preto: UFOP/UFMG.
NLM

Bento CA da S, Tremiliosi Filho G, Alencar AC, Guastaldi AC. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. Resumos. 2001 ;
Vancouver

Bento CA da S, Tremiliosi Filho G, Alencar AC, Guastaldi AC. Study of the diffusion of Ti, Al V and O in the Ti-6Al-4V/Ti'O IND2' interface by SEM and EDX. Resumos. 2001 ;