Implementação de finos diafragmas em lâminas de silício monocristalino, altamente dopadas com boro, visando fabricação de microsensores de pressão CMOS utilizando pós-processamento (1999)
- Authors:
- Autor USP: FURLAN, HUMBER - EP
- Unidade: EP
- Assunto: Circuito eletricos - consumo
- Language: Português
- Abstract: Este artigo apresenta os resultados obtidos nos experimentos para obtenção de finos diafragmas em lâminas de silício com dopagem de boro na concentração de 2,5 X 10¹9 atm/cm³. Foram levantadas curvas da taxa de corrosão em função da temperatura da solução de ataque químico ao silício de onde se extraiu o tempo necessário para a elaboração de um diafragma de 40 um de espessura
- Imprenta:
- Source:
- Título: Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica
- ISSN: 1413-2206
- Volume/Número/Paginação/Ano: n.21, 1999
-
ABNT
OLMOS, A. e CHARRY RODRIGUEZ, Edgar. Implementação de finos diafragmas em lâminas de silício monocristalino, altamente dopadas com boro, visando fabricação de microsensores de pressão CMOS utilizando pós-processamento. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica, n. 21, 1999Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/9301af3f-d43e-4f69-99ea-faafe3e3f021/BT-PEE-99_21_250911_084844.pdf. Acesso em: 19 mar. 2026. -
APA
Olmos, A., & Charry Rodriguez, E. (1999). Implementação de finos diafragmas em lâminas de silício monocristalino, altamente dopadas com boro, visando fabricação de microsensores de pressão CMOS utilizando pós-processamento. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica, (21). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/9301af3f-d43e-4f69-99ea-faafe3e3f021/BT-PEE-99_21_250911_084844.pdf -
NLM
Olmos A, Charry Rodriguez E. Implementação de finos diafragmas em lâminas de silício monocristalino, altamente dopadas com boro, visando fabricação de microsensores de pressão CMOS utilizando pós-processamento [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica. 1999 ;(21):[citado 2026 mar. 19 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/9301af3f-d43e-4f69-99ea-faafe3e3f021/BT-PEE-99_21_250911_084844.pdf -
Vancouver
Olmos A, Charry Rodriguez E. Implementação de finos diafragmas em lâminas de silício monocristalino, altamente dopadas com boro, visando fabricação de microsensores de pressão CMOS utilizando pós-processamento [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia Eletrônica. 1999 ;(21):[citado 2026 mar. 19 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/9301af3f-d43e-4f69-99ea-faafe3e3f021/BT-PEE-99_21_250911_084844.pdf
Download do texto completo
| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
 |
BT-PEE-99_21_250911_08484... | Direct link |
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
