On improving wear resistance of Cr-Al-N coatings using dynamic glancing angle DC magnetron sputtering (2021)
- Authors:
- USP affiliated authors: PINTO, HAROLDO CAVALCANTI - EESC ; AVILA, PEDRO RENATO TAVARES - EESC ; APOLINARIO, RAIRA CHEFER - EESC
- Unidade: EESC
- DOI: 10.3390/nano11092187
- Subjects: NEBULOSIDADE; DIREÇÃO VEICULAR; VISÃO; MATERIAIS
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: MDPI
- Publisher place: Basel, Switzerland
- Date published: 2021
- Source:
- Título: Nanomaterials
- ISSN: 2079-4991
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 11, article 2187, p. 1-14, 2021
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo é de acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: gold
- Licença: cc-by
-
ABNT
AVILA, Pedro Renato Tavares et al. On improving wear resistance of Cr-Al-N coatings using dynamic glancing angle DC magnetron sputtering. Nanomaterials, v. 11, p. 1-14, 2021Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.3390/nano11092187. Acesso em: 30 dez. 2025. -
APA
Avila, P. R. T., Apolinário, R. C., Rodrigues, A. M., Fernandes, J. V., Menezes, R. R., Neves, G. de A., & Pinto, H. C. (2021). On improving wear resistance of Cr-Al-N coatings using dynamic glancing angle DC magnetron sputtering. Nanomaterials, 11, 1-14. doi:10.3390/nano11092187 -
NLM
Avila PRT, Apolinário RC, Rodrigues AM, Fernandes JV, Menezes RR, Neves G de A, Pinto HC. On improving wear resistance of Cr-Al-N coatings using dynamic glancing angle DC magnetron sputtering [Internet]. Nanomaterials. 2021 ; 11 1-14.[citado 2025 dez. 30 ] Available from: https://doi.org/10.3390/nano11092187 -
Vancouver
Avila PRT, Apolinário RC, Rodrigues AM, Fernandes JV, Menezes RR, Neves G de A, Pinto HC. On improving wear resistance of Cr-Al-N coatings using dynamic glancing angle DC magnetron sputtering [Internet]. Nanomaterials. 2021 ; 11 1-14.[citado 2025 dez. 30 ] Available from: https://doi.org/10.3390/nano11092187 - Tailoring the hybrid magnetron sputtering process (HiPIMS and dcMS) to manufacture ceramic multilayers: powering conditions, target materials, and base layers
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Informações sobre o DOI: 10.3390/nano11092187 (Fonte: oaDOI API)
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