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Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering (2017)

  • Authors:
  • Autor USP: GUIMARÃES, MONICA COSTA RODRIGUES - EESC
  • Unidade: EESC
  • Sigla do Departamento: SMM
  • Subjects: MATERIAIS; FILMES FINOS
  • Keywords: MAGNETRON SPUTTERING
  • Language: Português
  • Abstract: O PVD (Physical Vapor Deposition - Deposição física na fase de vapor) é um meio utilizado para a produção de recobrimentos e empregado em grande escala industrial. É um processo de deposição atômica no qual o material é vaporizado de alvo sólido por sputtering e posteriormente condensado sobre a peça a ser revestida na forma de filme. O processo ocorre em uma câmera de váculo, na presença de plasma, e por diferença de potencial os íons, na forma pura ou combinados com átomos de hidrogênio ou carbono, são movidos para a superfície do substrato. Uma técnica relativamente nova de sputtering é o HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) que utiliza impulsos de energia extremamente altas com densidade de potência possibilitando filmes com melhores performances e mais densos. No presente trabalho filmes de nitreto de cromo ('Cr''N') foram depositados por duas técnicas de magnetron sputtering. HiPIMS e DCMS (Direct Current Magnetron Sputtering), variando frequência de pulso em 400 Hz, 450 Hz e 500 Hz para o HiPIMS e a tensão de polarização em 0 V, -20 V, -40 V, -60 V, -100 V e -140 V para os dois processos. Foram obtidos filmes com maior dureza, menor rugosidade para HiPIMS, no entanto DCMS apresentou maior taxa de deposição. O aumento da frequência nos filmes HiPIMS, assim como o aumento da tensão de polarização negativa possibilitaram filmes com morfologia mais densa e homogênea. Este fato foi observado com o aumento do valor de bias nos filmes depositados por DCMS. Os valores de dureza obtidos (17+/-2 para DCMS e 26 +/-1 para HiPIMS) são superiores aos reportados na literatura e podem estar relacionados ao efeito de "multicamadas" obtido pela oscilação do substrato
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 03.07.2017
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      GUIMARÃES, Monica Costa Rodrigues; PINTO, Haroldo Cavalcanti. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering. 2017.Universidade de São Paulo, São Carlos, 2017. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/pt-br.php >.
    • APA

      Guimarães, M. C. R., & Pinto, H. C. (2017). Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering. Universidade de São Paulo, São Carlos. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/pt-br.php
    • NLM

      Guimarães MCR, Pinto HC. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering [Internet]. 2017 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/pt-br.php
    • Vancouver

      Guimarães MCR, Pinto HC. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering [Internet]. 2017 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/pt-br.php

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