Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering (2017)
- Autores:
- Autor USP: GUIMARÃES, MONICA COSTA RODRIGUES - EESC
- Unidade: EESC
- Sigla do Departamento: SMM
- Assuntos: MATERIAIS; FILMES FINOS
- Palavras-chave do autor: MAGNETRON SPUTTERING
- Idioma: Português
- Resumo: O PVD (Physical Vapor Deposition - Deposição física na fase de vapor) é um meio utilizado para a produção de recobrimentos e empregado em grande escala industrial. É um processo de deposição atômica no qual o material é vaporizado de alvo sólido por sputtering e posteriormente condensado sobre a peça a ser revestida na forma de filme. O processo ocorre em uma câmera de váculo, na presença de plasma, e por diferença de potencial os íons, na forma pura ou combinados com átomos de hidrogênio ou carbono, são movidos para a superfície do substrato. Uma técnica relativamente nova de sputtering é o HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering) que utiliza impulsos de energia extremamente altas com densidade de potência possibilitando filmes com melhores performances e mais densos. No presente trabalho filmes de nitreto de cromo ('Cr''N') foram depositados por duas técnicas de magnetron sputtering. HiPIMS e DCMS (Direct Current Magnetron Sputtering), variando frequência de pulso em 400 Hz, 450 Hz e 500 Hz para o HiPIMS e a tensão de polarização em 0 V, -20 V, -40 V, -60 V, -100 V e -140 V para os dois processos. Foram obtidos filmes com maior dureza, menor rugosidade para HiPIMS, no entanto DCMS apresentou maior taxa de deposição. O aumento da frequência nos filmes HiPIMS, assim como o aumento da tensão de polarização negativa possibilitaram filmes com morfologia mais densa e homogênea. Este fato foi observado com o aumento do valor de bias nos filmes depositados por DCMS. Os valores de dureza obtidos (17+/-2 para DCMS e 26 +/-1 para HiPIMS) são superiores aos reportados na literatura e podem estar relacionados ao efeito de "multicamadas" obtido pela oscilação do substrato
- Imprenta:
- Local: São Carlos
- Data de publicação: 2017
- Data da defesa: 03.07.2017
-
ABNT
GUIMARÃES, Monica Costa Rodrigues. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering. 2017. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Carlos, 2017. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/. Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Guimarães, M. C. R. (2017). Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Carlos. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/ -
NLM
Guimarães MCR. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering [Internet]. 2017 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/ -
Vancouver
Guimarães MCR. Deposição e caracterização de filmes finos de 'Cr''N' depositados por diferentes processos de magnetron sputtering [Internet]. 2017 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/
Como citar
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
