Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X (2010)
- Autor:
- Autor USP: BONACHELA, WELLINGTON CARDOSO - FOB
- Unidade: FOB
- Subjects: IMPLANTES DENTÁRIOS; RAIOS X; MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
- Language: Português
- Abstract: O sucesso e durabilidade dos implantes dentais são observados na maior parte dos tratamentos para reposição de dentes, entretanto, algumas fallhas, relatadas na literatura, podem comprometer a reabilitação dos pacientes. Um paciente de 46 anos de idade foi reabilitado com uma prótese clássica de Brånemark, entretanto, um implante da região anterior da mandíbula, que sustentava a mesma, após 18 meses da instalação apresentou mobilidade, dor, e exsudação, sendo necessária sua remoção. O processo de osseointegração se dá entre as superfícies ósseas e óxidos formados sobre a superfície do titânio comercialmente puro, utilizado na fabricação dos implantes dentais. Entretanto, agentes contaminantes podem se desprender da camada superficial dos implantes, potencializar a resposta inflamatória e alterar o processo de cicatrização, o que pode levar à perda do implante. Com o objetivo de avaliar a presença de possíveis contaminantes na superfície do implante perdido, o mesmo foi encaminhado ao Centro de Caracterização e Desenvolvimento de Materiais (CCDM) para análise, por microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X (MEV/EDS). Verificou-se a presença de elementos, como C, Ca, Na, Cl e Si. Esses elementos podem ser originários dos fluidos corporais ou dos processos finais de fabricação, não sendo possível, pelas técnicas utilizadas, estabelecer sua origem
- Imprenta:
- Source:
- Título: Innovations Implant Journal - Biomaterials and Esthetic
- ISSN: 1984-5960
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 5, n. 3, p. 75-78, set./dez. 2010
-
ABNT
BONACHELA, Wellington Cardoso. Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X. Innovations Implant Journal - Biomaterials and Esthetic, v. 5, n. 3, p. 75-78, 2010Tradução . . Disponível em: http://www.innovationsjournal.com.br/artigo/137. Acesso em: 19 mar. 2026. -
APA
Bonachela, W. C. (2010). Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X. Innovations Implant Journal - Biomaterials and Esthetic, 5( 3), 75-78. Recuperado de http://www.innovationsjournal.com.br/artigo/137 -
NLM
Bonachela WC. Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X [Internet]. Innovations Implant Journal - Biomaterials and Esthetic. 2010 ; 5( 3): 75-78.[citado 2026 mar. 19 ] Available from: http://www.innovationsjournal.com.br/artigo/137 -
Vancouver
Bonachela WC. Avaliação de implante dental comprometido empregando microscopia eletrônica de varredura e espectrometria dispersiva de raio X [Internet]. Innovations Implant Journal - Biomaterials and Esthetic. 2010 ; 5( 3): 75-78.[citado 2026 mar. 19 ] Available from: http://www.innovationsjournal.com.br/artigo/137 - A perda óssea radiográfica ao redor dos implantes de largo diâmetro se compara aos implantes de diâmetro estreito/convencional no mesmo paciente?
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