Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia (2008)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, MARCELO DE ASSUMPCAO PEREIRA DA - IFSC ; FARIA, ROBERTO MENDONÇA - IFSC
- Unidade: IFSC
- Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS); NANOTECNOLOGIA; NANOPARTÍCULAS; FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: IFSC - IQSC - EESC / USP
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 2008
- Source:
- Título do periódico: Livro de Resumos
- Conference titles: Simpósio em Ciência e Engenharia de Materiais - SICEM
-
ABNT
LONGARESI, R. H. et al. Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia. 2008, Anais.. São Carlos: IFSC - IQSC - EESC / USP, 2008. . Acesso em: 20 set. 2024. -
APA
Longaresi, R. H., Carvalho, A. J. F., Silva, M. de A. P. da, & Faria, R. M. (2008). Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia. In Livro de Resumos. São Carlos: IFSC - IQSC - EESC / USP. -
NLM
Longaresi RH, Carvalho AJF, Silva M de AP da, Faria RM. Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia. Livro de Resumos. 2008 ;[citado 2024 set. 20 ] -
Vancouver
Longaresi RH, Carvalho AJF, Silva M de AP da, Faria RM. Estruturas de copolímeros sub-micrometricas utilizadas em processo de litografia. Livro de Resumos. 2008 ;[citado 2024 set. 20 ] - Soft lithography in ordered-desordered nanostructures of triblock copolymer
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