Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources (2003)
- Authors:
- Autor USP: LI, MAXIMO SIU - IFSC
- Unidade: IFSC
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências
- Publisher place: Bauru
- Date published: 2003
- Source:
- Título do periódico: Programa oficial e resumo de trabalhos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBrAVIC
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ABNT
VICENTE, Fabio S. e RUBO, Elisabete A. A. e SIU LI, Máximo. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. 2003, Anais.. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências, 2003. . Acesso em: 28 nov. 2023. -
APA
Vicente, F. S., Rubo, E. A. A., & Siu Li, M. (2003). Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. In Programa oficial e resumo de trabalhos. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências. -
NLM
Vicente FS, Rubo EAA, Siu Li M. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. Programa oficial e resumo de trabalhos. 2003 ;[citado 2023 nov. 28 ] -
Vancouver
Vicente FS, Rubo EAA, Siu Li M. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. Programa oficial e resumo de trabalhos. 2003 ;[citado 2023 nov. 28 ] - Protótipo de Dewar com cinco janelas óticas para intervalo de temperatura de 55 K - 400 K
- Construção de laser de centro de cor sintonizável
- Relaxacao dieletrica em cristais mistos de kc'N IND.X': k'BR IND.1-X' 0.5 '<OU ='x''<ou '1.0
- Emissao vibracional do c'N POT.-' Induzido por absorcao do centro f em cristais de kcl impurificado com oc'N POT.-'
- Laser de centro de cor sintonizavel no intervalo de 2.56 'MI' a 2.82 'MI'
- Estudos de aglomeracao de o'H POT.-' Em k'CL' usando duas tecnicas: itc ( corrente termoestimulada) e eivd ( espectroscopia de transformada de fourier no infravermelho distante)
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