Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources (2003)
- Autores:
- Autor USP: LI, MAXIMO SIU - IFSC
- Unidade: IFSC
- Assunto: FILMES FINOS
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Editora: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências
- Local: Bauru
- Data de publicação: 2003
- Fonte:
- Título do periódico: Programa oficial e resumo de trabalhos
- Nome do evento: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência - CBrAVIC
-
ABNT
VICENTE, Fabio S. e RUBO, Elisabete A. A. e SIU LI, Máximo. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. 2003, Anais.. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências, 2003. . Acesso em: 18 abr. 2024. -
APA
Vicente, F. S., Rubo, E. A. A., & Siu Li, M. (2003). Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. In Programa oficial e resumo de trabalhos. Bauru: Universidade Estadual Paulista, Faculdade de Ciências. -
NLM
Vicente FS, Rubo EAA, Siu Li M. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. Programa oficial e resumo de trabalhos. 2003 ;[citado 2024 abr. 18 ] -
Vancouver
Vicente FS, Rubo EAA, Siu Li M. Construction of an evaporation system for film deposition via resistive and electron beam sources. Programa oficial e resumo de trabalhos. 2003 ;[citado 2024 abr. 18 ] - Caracterizacao de um laser de centro de cor utilizando como meio ativo um cristal de KCl + 1% LiCl Com Centros 'F IND. A'(II)
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