Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2001)
- Authors:
- USP affiliated authors: MATSUOKA, MASAO - IF ; WATANABE, SHIGUEO - IF
- Unidade: IF
- Subjects: SUPERCONDUTIVIDADE; FILMES FINOS; ESPECTROSCOPIA INFRAVERMELHA
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada
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ABNT
MAMANI, Wilmer Alexe Sucasaire et al. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2001, Anais.. São Paulo: SBF, 2001. . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Mamani, W. A. S., Matsuoka, M., Watanabe, S., & Zambom, L. da S. (2001). Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. In Resumos. São Paulo: SBF. -
NLM
Mamani WAS, Matsuoka M, Watanabe S, Zambom L da S. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Resumos. 2001 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Mamani WAS, Matsuoka M, Watanabe S, Zambom L da S. Formação e caracterização de filmes de nitreto de silício preparados por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Resumos. 2001 ;[citado 2024 abr. 23 ] - Propriedades dosimetricas do quartzo natural atraves da termoluminescencia (tl) e esr, e sua aplicacao a datacao geologica
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