Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows (1998)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF
- Unidade: IF
- Assunto: FÍSICO-QUÍMICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 145, n. 2, p. 706-711, 1998
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ABNT
PASSERINI, S et al. Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows. Journal of the Electrochemical Society, v. 145, n. 2, p. 706-711, 1998Tradução . . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Passerini, S., Gorenstein, W. H., Fantini, M. C. de A., & Tabacniks, M. H. (1998). Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows. Journal of the Electrochemical Society, 145( 2), 706-711. -
NLM
Passerini S, Gorenstein WH, Fantini MC de A, Tabacniks MH. Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows. Journal of the Electrochemical Society. 1998 ; 145( 2): 706-711.[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Passerini S, Gorenstein WH, Fantini MC de A, Tabacniks MH. Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows. Journal of the Electrochemical Society. 1998 ; 145( 2): 706-711.[citado 2024 abr. 19 ] - Filmes eletrocromicos de 'NIO IND.X' depositados pou 'rf- sputtering
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