Estrutura e intercalação de íons em filmes de óxido metálicos (1998)
- Authors:
- Autor USP: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- Sigla do Departamento: FAP
- Subjects: MATÉRIA CONDENSADA; DIFRAÇÃO POR RAIOS X
- Language: Português
- Abstract: Este trabalho teve por objetivo o crescimento e caracterização de filmes finos de óxidos de molibdênio, vanádio e níquel depositados por rf sputtering reativo em atmosfera de Ar + 'O IND.2', úteis para aplicações envolvendo intercalação de íons, como dispositivos eletrocrômicos e baterias. Foi dada ênfase ao estudo das propriedades estruturais, determinadas por Difração de Raios X e Espectroscopia de Absorção de Raios X. As propriedades eletroquímicas, ópticas e mecânicas foram analisadas por voltametria cíclica com transmitância monocromática ('lâmbda' = 632,8 nm) e tensão mecânica in-situ, cronopotenciometria e espectrofotometria na região do visível/infra-vermelho próximo. A estequiometria dos compostos foi determinada por Espectroscopia de Retroespalhamento Rutherford e Espectroscopia de Espalhamento Elástico e correlacionada com a estrutura dos filmes. Através da variação da concentração de 'O IND.2' na câmara de deposição foi possível obter materiais com propriedades diferentes, as quais foram analisadas em função dos diferentes processos de intercalação eletroquímica. Para os óxidos de molibdênio e vanádio, foram verificadas mudanças de fase após o processo de intercalação eletroquímica. A reversibilidade do processo depende da quantidade de carga intercalada. O óxido de níquel apresenta somente variações nos parâmetros de rede. A investigação da estrutura de ordem local permitiu correlacionar mudanças na distribuição de primeirosvizinhos como função do composto formado, da carga intercalada e do íon intercalante
- Imprenta:
- Data da defesa: 11.12.1998
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ABNT
FERREIRA, Fábio Furlan. Estrutura e intercalação de íons em filmes de óxido metálicos. 1998. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1998. . Acesso em: 26 abr. 2024. -
APA
Ferreira, F. F. (1998). Estrutura e intercalação de íons em filmes de óxido metálicos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Ferreira FF. Estrutura e intercalação de íons em filmes de óxido metálicos. 1998 ;[citado 2024 abr. 26 ] -
Vancouver
Ferreira FF. Estrutura e intercalação de íons em filmes de óxido metálicos. 1998 ;[citado 2024 abr. 26 ] - Synthesis, characterization and electrochromic properties of 'NiO IND.X''H IND.X' thin film prepared by a sol-gel method
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