Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering (1991)
- Authors:
- Autor USP: MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Ufmg
- Publisher place: Belo Horizonte
- Date published: 1991
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
ROTONDARO, Antônio Luís Pacheco e MACIEL, H. S. Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering. 1991, Anais.. Belo Horizonte: Sbmicro/Ufmg, 1991. . Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Rotondaro, A. L. P., & Maciel, H. S. (1991). Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering. In Anais. Belo Horizonte: Sbmicro/Ufmg. -
NLM
Rotondaro ALP, Maciel HS. Estudo da influencia da potencia de rf aplicada ao catodo em filmes finos de titanio e cobalto depositados por sputtering. Anais. 1991 ;[citado 2026 fev. 14 ] -
Vancouver
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