Electrochemical deposition of high tc superconducting thin films (1990)
- Authors:
- Autor USP: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1117/12.20881
- Assunto: MATÉRIA CONDENSADA (PROPRIEDADES ELÉTRICAS)
- Language: Inglês
- Source:
- Título: Spie
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.1287, p.48-53, 1990
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
TOMKIEWICZ, M et al. Electrochemical deposition of high tc superconducting thin films. Spie, v. 1287, p. 48-53, 1990Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1117/12.20881. Acesso em: 11 nov. 2024. -
APA
Tomkiewicz, M., Zhang, W. B., Fantini, M. C. de A., Montano, P. M., Shen, W. M., Zhao, J., & Seehra, M. S. (1990). Electrochemical deposition of high tc superconducting thin films. Spie, 1287, 48-53. doi:10.1117/12.20881 -
NLM
Tomkiewicz M, Zhang WB, Fantini MC de A, Montano PM, Shen WM, Zhao J, Seehra MS. Electrochemical deposition of high tc superconducting thin films [Internet]. Spie. 1990 ;1287 48-53.[citado 2024 nov. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1117/12.20881 -
Vancouver
Tomkiewicz M, Zhang WB, Fantini MC de A, Montano PM, Shen WM, Zhao J, Seehra MS. Electrochemical deposition of high tc superconducting thin films [Internet]. Spie. 1990 ;1287 48-53.[citado 2024 nov. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1117/12.20881 - Liquid junctions for characterization of electronic materials . Iv. Impendance spectroscopy of reactive ion etched 'SI'
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Informações sobre o DOI: 10.1117/12.20881 (Fonte: oaDOI API)
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