Influência da pressão de argonio na uniformidade de filmes finos depositados por sputtering (1989)
- Authors:
- Autor USP: ROTONDARO, ANTONIO LUIS PACHECO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Ufrgs
- Publisher place: Porto Alegre
- Date published: 1989
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica
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ABNT
ROTONDARO, Antônio Luís Pacheco e MACIEL, H. S. Influência da pressão de argonio na uniformidade de filmes finos depositados por sputtering. 1989, Anais.. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs, 1989. . Acesso em: 12 jun. 2025. -
APA
Rotondaro, A. L. P., & Maciel, H. S. (1989). Influência da pressão de argonio na uniformidade de filmes finos depositados por sputtering. In Anais. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs. -
NLM
Rotondaro ALP, Maciel HS. Influência da pressão de argonio na uniformidade de filmes finos depositados por sputtering. Anais. 1989 ;[citado 2025 jun. 12 ] -
Vancouver
Rotondaro ALP, Maciel HS. Influência da pressão de argonio na uniformidade de filmes finos depositados por sputtering. Anais. 1989 ;[citado 2025 jun. 12 ]
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