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Otimização de um processo de deposição de titânio e cobalto por espirramento catódico visando a formação de silicetos (1990)

  • Authors:
  • Autor USP: ROTONDARO, ANTONIO LUIS PACHECO - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PEL
  • Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: Caracterizamos um equipamento de espirramento catódico modelo eg10 da edwards high vacuum, determinando as condições de deposição que produzem filmes de titânio e cobalto de baixa resistividade e taxa de deposição adequada a obtenção de filmes de 400a, necessários para formação de siliceto. Variamos a pressão de trabalho do sistema na faixa de 3,0x'10 POT.-3'mbar a 60,0x'10 POT.-3'mbar e a potência de rf aplicada ao catodo de 400w a 1000w. A pressão de trabalho afeta a estrutura e o nível de incorporação de contaminantes dos filmes causando um mínimo de resistividade em 20,0x'10 POT.-3'mbar. A taxa de deposição cresce com a pressão atá saturar a partir de 30,0x'10 POT.-3'mbar. A potência de rf aplicada ao catodo produz o aumento da taxa de deposição associada a obtenção de um mínimo de resistividade em 800w. Monitoramos com uma sonda de langmuir a densidade de íons, a temperatura de eletron e o potencial de plasmas nas condições ensaiadas de processo. O plasma torna-se mais denso, sem que ocorra variação de seu potencial, mas com uma acentuada redução da temperatura de eletrons com o aumento da pressão. A descarga tem a sua densidade, seu potencial e a temperatura de eletrons aumentada com a potência de rf aplicada ao catodo.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 11.12.1990
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      ROTONDARO, Antônio Luís Pacheco. Otimização de um processo de deposição de titânio e cobalto por espirramento catódico visando a formação de silicetos. 1990. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1990. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-06012025-115024/. Acesso em: 14 mar. 2026.
    • APA

      Rotondaro, A. L. P. (1990). Otimização de um processo de deposição de titânio e cobalto por espirramento catódico visando a formação de silicetos (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-06012025-115024/
    • NLM

      Rotondaro ALP. Otimização de um processo de deposição de titânio e cobalto por espirramento catódico visando a formação de silicetos [Internet]. 1990 ;[citado 2026 mar. 14 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-06012025-115024/
    • Vancouver

      Rotondaro ALP. Otimização de um processo de deposição de titânio e cobalto por espirramento catódico visando a formação de silicetos [Internet]. 1990 ;[citado 2026 mar. 14 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-06012025-115024/

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