Otimizacao de um processo de deposicao de titanio e cobalto por espirramento catodico visando a formacao de silicetos (1990)
- Authors:
- Autor USP: ROTONDARO, ANTONIO LUIS PACHECO - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEL
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Language: Português
- Abstract: Caracterizamos um equipamento de espirramento catodico modelo eg10 da edwards high vacuum, determinando as condicoes de deposicao que produzem filmes de titanio e cobalto de baixa resistividade e taxa de deposicao adequada a obtencao de filmes de 400a, necessarios para formacao de siliceto. Variamos a pressao de trabalho do sistema na faixa de 3,0x'10 POT.-3'mbar a 60,0x'10 POT.-3'mbar e a potencia de rf aplicada ao catodo de 400w a 1000w. A pressao de trabalho afeta a estrutura e o nivel de incorporacao de contaminantes dos filmes causando um minimo de resistividade em 20,0x'10 POT.-3'mbar. A taxa de deposicao cresce com a pressao ate saturar a partir de 30,0x'10 POT.-3'mbar. A potencia de rf aplicada ao catodo produz o aumento da taxa de deposicao associada a obtencao de um minimo de resistividade em 800w. Monitoramos com uma sonda de langmuir a densidade de ions, a temperatura de eletron e o potencial de plasmas nas condicoes ensaiadas de processo. O plasma torna-se mais denso, sem que ocorra variacao de seu potencial, mas com uma acentuada reducao da temperatura de eletrons com o aumento da pressao. A descarga tem a sua densidade, seu potencial e a temperatura de eletrons aumentada com a potencia de rf aplicada ao catodo
- Imprenta:
- Data da defesa: 11.12.1990
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ABNT
ROTONDARO, Antônio Luís Pacheco; MACIEL, Homero Santiago. Otimizacao de um processo de deposicao de titanio e cobalto por espirramento catodico visando a formacao de silicetos. 1990.Universidade de São Paulo, São Paulo, 1990. -
APA
Rotondaro, A. L. P., & Maciel, H. S. (1990). Otimizacao de um processo de deposicao de titanio e cobalto por espirramento catodico visando a formacao de silicetos. Universidade de São Paulo, São Paulo. -
NLM
Rotondaro ALP, Maciel HS. Otimizacao de um processo de deposicao de titanio e cobalto por espirramento catodico visando a formacao de silicetos. 1990 ; -
Vancouver
Rotondaro ALP, Maciel HS. Otimizacao de um processo de deposicao de titanio e cobalto por espirramento catodico visando a formacao de silicetos. 1990 ;
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