High red emission intensity of Eu:Y2O3 films grown on Si(1 0 0)/Si (1 1 1) by electron beam evaporation (2014)
- Authors:
- USP affiliated authors: SILVA, MARCELO DE ASSUMPCAO PEREIRA DA - IFSC ; NUNES, LUIZ ANTONIO DE OLIVEIRA - IFSC ; LI, MAXIMO SIU - IFSC ; MAREGA JUNIOR, EUCLYDES - IFSC
- Unidade: IFSC
- DOI: 10.1016/j.jlumin.2013.12.022
- Subjects: FOTOLUMINESCÊNCIA; FILMES FINOS; TERRAS RARAS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Luminescence
- ISSN: 0022-2313
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 148, p. 186-191, Apr. 2014
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
RIVERA, V. A. G. et al. High red emission intensity of Eu:Y2O3 films grown on Si(1 0 0)/Si (1 1 1) by electron beam evaporation. Journal of Luminescence, v. 148, p. 186-191, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2013.12.022. Acesso em: 19 set. 2024. -
APA
Rivera, V. A. G., Ferri, F. A., Clabel, H. J. L., Silva, M. de A. P. da, Nunes, L. A. de O., Siu Li, M., & Marega Júnior, E. (2014). High red emission intensity of Eu:Y2O3 films grown on Si(1 0 0)/Si (1 1 1) by electron beam evaporation. Journal of Luminescence, 148, 186-191. doi:10.1016/j.jlumin.2013.12.022 -
NLM
Rivera VAG, Ferri FA, Clabel HJL, Silva M de AP da, Nunes LA de O, Siu Li M, Marega Júnior E. High red emission intensity of Eu:Y2O3 films grown on Si(1 0 0)/Si (1 1 1) by electron beam evaporation [Internet]. Journal of Luminescence. 2014 ; 148 186-191.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2013.12.022 -
Vancouver
Rivera VAG, Ferri FA, Clabel HJL, Silva M de AP da, Nunes LA de O, Siu Li M, Marega Júnior E. High red emission intensity of Eu:Y2O3 films grown on Si(1 0 0)/Si (1 1 1) by electron beam evaporation [Internet]. Journal of Luminescence. 2014 ; 148 186-191.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jlumin.2013.12.022 - High near-infrared emission intensity of Er3+- doped zirconium oxide films on a Si (100) substrate
- High near-infrared emission intensity of Er3+-doped zirconium oxide films on a Si(100) substrate
- High emission intensity of 'Er POT. 3+'- doped zirconium films on a Si(100) substrate
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.jlumin.2013.12.022 (Fonte: oaDOI API)
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