TI - Resistência ao cisalhamento da interface resina/esmalte após fotopolimerização com diferentes fontes de luz PY - 2007 AU - Brandão, C. B. AU - Contente, M. M. M. G. AU - Silva, J. M. G. AU - Oliveira, R. H. AU - Torres, C. P. AU - Palma Dibb, Regina Guenka AU - Borsatto, Maria Cristina T2 - Congresso Interno de Pesquisa da FORP-USP J2 - Anais da Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto da Universidade de São Paulo SN - 1980-8801 PP - Ribeirão Preto VL - 14 ER -