Filmes finos de oxidos(HfO2, CeO2, TiO2) para dispositivos eletrônicos fabricados por IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition) - Costa, Harliton Jonas da; David, Denis G F; Silva, Antonio Ferreira da; Chubaci, José Fernando Diniz; Matsuoka, Masao; Freitas Junior, Jaime A (Encontro de Físicos do Norte e Nordeste, 2013)