Aluminium etching with CC14-N2 plasma (1997)
- Autores:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
-
ABNT
NAKAZAWA, A M; VERDONCK, Patrick Bernard. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. [S.l: s.n.], 1997. -
APA
Nakazawa, A. M., & Verdonck, P. B. (1997). Aluminium etching with CC14-N2 plasma. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ; -
Vancouver
Nakazawa AM, Verdonck PB. Aluminium etching with CC14-N2 plasma. 1997 ; - Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes
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