Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos (1995)
- Autores:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: Resumos
- Nome do evento: Simpósio de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo
-
ABNT
MACHADO, D V; VERDONCK, Patrick Bernard. Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos. Anais.. Sao Paulo: Usp, 1995. -
APA
Machado, D. V., & Verdonck, P. B. (1995). Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos. In Resumos. Sao Paulo: Usp. -
NLM
Machado DV, Verdonck PB. Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos. Resumos. 1995 ; -
Vancouver
Machado DV, Verdonck PB. Tecnicas de medidas de espessura de filmes finos. Resumos. 1995 ; - Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
- Aluminium etching with CC14-N2 plasma
- RF electrical measurements in plasma processing reactors
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- Aluminium etching with cc14-n2 plasmas
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